세계지적재산권기구, 中 지적재산권 분야 성과 높게 평가

[인민망 한국어판 3월 17일] 제네바에 본부를 둔 세계지적재산권기구가 15일, 중국이 지적재산권 분야에서 거둔 성과를 높이 평가했다.

당일 제네바 만국궁전에서 열린 기자회견에서, 프랜시스 거리 세계지적재산권기구 사무총장은 중국이 거둔 성과가 놀랍다며, 국제 특허 출원에서 중국의 일년 출원 건수가 44% 증가했다고 칭찬했다. 

프랜시스 거리 사무총장은 2016년 세계지적재산권기구의 특허 협약 안에 글로벌 특허 출원 건수가 전년 대비 7.3% 성장한 23만 3000건의 기록 가운데 중국이 기여한 바가 컸다며 "국제 특허 출원 중에 중국의 출원량은 1년 내 44.7% 증가했다"고 밝혔다. (번역: 조미경)

원문 출처: <인민일보> 3월 17일 21면 

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